Seminar PVD-/CVD Verfahren
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Grundlagen, grundsätzliche Funktionsweise von PVD-/CVD Verfahren
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Physikalische Voraussetzungen
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PVD-Verfahren (thermisches Verdampfen, Sputtern, reaktives Sputtern, Elektronenstrahlverdampfen,...)
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CVD-Verfahren (Metall-CVD, Nicht-Metall-CVD, Plasma unterstützte CVD (PECVD, PACVD), ...)
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Diskussion spezifischer Prozessprobleme
Ziel:
Grundsätzliches Verständnis von PVD-/CVD-Verfahren und der ablaufenden Reaktionen während des Prozesses. Besseres Verständnis der eigenen Applikation.
Zielgruppe:
Teilnehmer mit Grundkenntnissen der Vakuumtechnik. Monteure, Inbetriebnehmer, Servicemitar- beiter, Schichtführer/Vorarbeiter, Wartungspersonal, ...
Empfohlene Dauer:
Pro Verfahren (CVD, PVD) jeweils 1 Tag