Seminar PVD-/CVD Verfahren

  1. Grundlagen, grundsätzliche Funktionsweise von PVD-/CVD Verfahren

  2. Physikalische Voraussetzungen

  3. PVD-Verfahren (thermisches Verdampfen, Sputtern, reaktives Sputtern, Elektronenstrahlverdampfen,...)

  4. CVD-Verfahren (Metall-CVD, Nicht-Metall-CVD, Plasma unterstützte CVD (PECVD, PACVD), ...)

  5. Diskussion spezifischer Prozessprobleme

Ziel:

Grundsätzliches Verständnis von PVD-/CVD-Verfahren und der ablaufenden Reaktionen während des Prozesses. Besseres Verständnis der eigenen Applikation.

Zielgruppe:

Teilnehmer mit Grundkenntnissen der Vakuumtechnik. Monteure, Inbetriebnehmer, Servicemitar- beiter, Schichtführer/Vorarbeiter, Wartungspersonal, ...

Empfohlene Dauer:

Pro Verfahren (CVD, PVD) jeweils 1 Tag 

 
 
 
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